english  
  Domů Společnost Produkty Výzkum Kontakt
 

 

Odporové vrstvy
Kontaktní  vrstvy
Vlhkoměry
 Rtg optika
 Koncentrovaná fotovoltaika CPV

      

 

 

 

Výrobní program

TTS nabízí vývoj a výrobu sofistikovaných tenkých vrstev ve vysoké kvalitě a za nízkou cenu
 

I) Naše hlavní obchodní aktivita spočívá ve vývoji a výrobě kovových a pasivačních vrstev,  nanášených technologií vakuového  magnetronového  naprašování 

Výrobní zařízení:  MRC 903M:
- rychlý dvoukomorový zakládací systém
- tři magnetrony (tj. tři různé různé materiálové terče) v hlavní komoře
- excitační módy: DC, RF magnetron, RF dioda
- vakuový ohřev nastavitelný do 420 ° C
- modul iontového leptání/čištění substrátů před a během depozice

- horizontální umístění substrátů na plochu 300 x 300 mm

 

Výrobní zařízení: Plasmavac Bendix:

- jednokomorový vsádkový systém

- karusel se 6 terči pod jedním vakuem

- excitační módy: DC dioda, DC trioda, RF dioda, RF trioda, externí magnetické pole

- možnost depozice experimentálních vzorků  i z malých terčů o průměru 30 mm

 

Nanášené materiály:
Al, AlSi, AlSiCu, Ti, TiW, Pd, Au, Ag, Ta, Cu, Cr, NiV, NiCr, TiSi2, Si, SiO2, další na vyžádání

Technologie depozice vrstev sestává ze dvou hlavních kroků:

depozice vrstev a následné nastavení parametrů, požadovaných zákazníkem.

Konečné tvarování vrstev může být provedeno  dvěma základními způsoby:

a) sandwichová multivrstvová struktura s nastavenými parametry je deponována celoplošně - konečný element je tvarován a dokončen zákazníkem (fotoresistová maska + suché nebo mokré leptání motivů)

 

b) Jednotlivé vrstvy jsou tvarovány již během nanášení - depozicí přes fotorezistové masky (tzv. "lift-off" technologie). V takovém případě jsme schopni navrhnout vhodné fotolitografické masky. Samotnou výrobu masek a fotolitografii zajišťujeme u smluvních technologických partnerů v ČR i v zahraničí.

 

II) Další obchodní aktivita spočívá v iontovém leptání (Ion Milling)

    anebo depozici materálů iontovým svazkem (Ion Deposition)

Výrobní zařízení: Veeco 747:

- jednokomorový vsádkový systém

- iontový svazek průměru 75 mm

- neutralizace urychlených Ar iontů elektrony před dopadem na terč/substrát

- možnost iontového leptání vodivých i nevodivých materiálů ve vakuu 1.10-3  Pa

- možnost depozice vodivých i nevodivých materiálů ve vakuu 1.10-3  Pa

 


TTS s.r.o.

Novodvorská 994

142 21 Praha 4

Česká  republika

mailto:info@tts-co.eu